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微电子学微光刻技术术语

国家标准
标准编号:GB/T 44928-2024 标准状态:现行
标准价格:200.0 客户评分:星星星星1
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标准简介
本文件界定了微电子学微光刻技术有关的微电子光刻技术,先进光刻技术,微光刻图形化和图形数据处理技术,微光刻感光材料、铬板与基板材料,光掩模技术,光刻工艺(曝光、刻蚀与微纳米加工)技术,电子束掩模制造与直写技术,光刻及掩模质量参数测量和评定,掩模制造设备和微光刻设备等术语和定义。
本文件适用于微电子学微光刻技术领域的教学、科研、生产、应用、贸易和技术交流。
英文名称:  Terms of microlithography technology for microelectronics
什么是中标分类? 中标分类:  电子元器件与信息技术>>电子设备专用材料、零件、结构件>>L90电子技术专用材料
什么是ICS分类?  ICS分类:  31.030
发布部门:  国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会
发布日期:  2024-12-31
实施日期:  2024-12-31
提出单位:  全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
什么是归口单位? 归口单位:  全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
起草单位:  中国科学院微电子研究所
起草人:  陈宝钦、王香、李和委、王力玉、李新涛、冯伯儒、薛丽君、郝美玲、薛彩荣
页数:  192页【胶订-大印张】
出版社:  中国标准出版社
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