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| 英文名称： |
Method for chemical analysis of metal germanium—Part 3:Determination of trace impurity elements content—Glow discharge mass spectrometry |
 中标分类： |
冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法 |
| ICS分类： |
冶金>>77.040金属材料试验 |
| 发布部门： |
国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2022-12-30 |
| 实施日期： |
2023-04-01
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| 提出单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) |
| 归口单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) |
| 起草单位： |
安徽光智科技有限公司、云南驰宏锌锗股份有限公司、国标(北京)检验认证有限公司、云南临沧鑫圆锗业股份有限公司、东方电气(乐山)峨半高纯材料有限公司、有研国晶辉新材料有限公司、广东先导稀材股份有限公司、广东飞成新材料有限公司 |
| 起草人： |
朱赞芳、谭秀珍、廖吉伟、刘红、吴王昌、黎亚文、李瑶、刘英波、李正美、崔丁方、李江霖、段春芳 |
| 页数： |
12页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |