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| 英文名称： |
Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials |
 中标分类： |
仪器、仪表>>光学仪器>>N33电子光学与其他物理光学仪器 |
| ICS分类： |
化工技术>>分析化学>>71.040.40化学分析 |
| 采标情况： |
IDT ISO 14237:2000 |
| 发布部门： |
国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2006-03-27 |
| 实施日期： |
2006-11-01
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| 首发日期： |
2006-03-27 |
| 提出单位： |
全国微束分析标准化技术委员会 |
| 归口单位： |
全国微束分析标准化技术委员会 |
| 主管部门： |
国家标准化管理委员会 |
| 起草单位： |
清华大学电子工程系 |
| 起草人： |
查良镇、陈旭、王光普、黄雁华、黄天斌、刘林、葛欣、桂东 |
| 计划单号： |
20010510-T-469 |
| 页数： |
平装16开 页数：20, 字数：32千字 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 出版日期： |
2006-11-01 |
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