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| 英文名称： |
Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysis of mask defect inspection systems |
 中标分类： |
电子元器件与信息技术>>微电路>>L56半导体集成电路 |
| ICS分类： |
电子学>>31.200集成电路、微电子学 |
| 采标情况： |
idt SEMI P23:1993 |
| 发布部门： |
国家质量技术监督局 |
| 发布日期： |
1999-09-01 |
| 实施日期： |
2000-06-01
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| 首发日期： |
1999-09-13 |
| 复审日期： |
2004-10-14 |
| 归口单位： |
全国半导体材料和设备标准化技术委员会 |
| 主管部门： |
国家标准化管理委员会 |
| 起草单位： |
中国科学院微电子中心 |
| 页数： |
平装16开， 页数：13， 字数：21千字 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 书号： |
155066.1-16384 |
| 出版日期： |
2004-08-22 |
| 标准前页： |
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